钨金属化学气相沉积法中原子层沉积的方法
- 详细资料
- 分类:钨专利技术
- 发布于 2013年8月05日 星期一 16:05
- 作者:Elva
- 点击数:4543
本发明提供一种钨金属化学气相沉积法中原子层沉积的方法。具体步骤如下:
1)使用一第一反应气体进行化学气相沉积制程,以形成一第一反应气体原子沉积层;
2)将该第一反应气体作用完的剩余气体抽除;3
3)使用一第二含钨反应气体进行化学气相沉积制程,以形成一相对于该第一反应气体原子沉积层的第二含钨反应气体原子沉积层;
4)将该第二含钨反应气体作用完的剩余气体抽除;
5)重复上述1)至4)步骤至少一次,形成循环周期;
6)在上述循环周期中,选择于部分周期重复实施步骤(c)和(d)至少一次。
钨产品生产商、供应商:中钨在线科技有限公司
产品详情查阅:http://www.chinatungsten.com
订购电话:0592-5129696 传真:0592-5129797
电子邮件: sales@chinatungsten.com
钨图片网站:http://image.chinatungsten.com
钨视频网站:http://v.chinatungsten.com
钨新闻、价格手机网站,3G版:http://3g.chinatungsten.com