检测钨化学气相淀积设备异常情况的方法
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- 分类:钨专利技术
- 发布于 2013年7月31日 星期三 16:22
- 作者:Elva
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本发明提供一种检测钨化学气相淀积设备异常情况的方法。具体步骤如下:
1)以设定信噪比和扫描精度扫描硅烷与六氟化钨气体还原反应前的晶圆,得到初始微细颗粒数;
2)在钨化学气相淀积设备中通入硅烷与六氟化钨气体进行还原反应,在晶圆表面生成钨 薄膜;
3)以同样的信噪比和扫描精度扫描表面生成钨薄膜的晶圆得到反应后微细颗粒数;
4)判断反应后微细颗粒数相比初始微细颗粒数增加的晶圆表面的微细颗粒是否是气相成核钨微细颗粒;
5)若扫描到的微细颗粒不是气相成核钨微细颗粒,则钨化学气 相淀积设备的通入气体控制部件未出现异常;
6)若扫描到的微细颗粒是气相成核钨微细颗粒,则钨化学气相淀积设备的通入气体控制部件出现异常。
通过本发明方法可以精确地确定钨化学气相淀积设备是否出现异常,并且不影响工艺持续性。
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