氧空位氧化钨在地膜中的应用优势
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2024年9月10日 星期二 14:21
- 作者:Xiaoting
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氧空位氧化钨又称为缺陷态氧化钨,分子式为WO3−x,其中x代表氧空位的数量。氧空位的存在使得这种材料在物理和化学性质上表现出独特性,如增强的催化性能、导电性能以及光吸收能力等。
那么,氧空位氧化钨在地膜中的应用优势有哪些?
一是增强抗老化性:地膜在使用过程中会受到热、氧、光、水等多种环境因素的影响,导致材料老化。氧空位氧化钨作为添加剂,能够有效提升地膜的抗老化性能。其独特的结构能够抵抗紫外线的照射,减少光老化现象,同时增强材料的化学稳定性,延长地膜的使用寿命。
二是提高透光性:地膜需要具备良好的透光性,以保证农作物获得足够的光照。氧空位氧化钨在提升材料透光性方面表现出色,它能够允许更多的可见光透过,同时阻挡部分有害的紫外线,为农作物提供适宜的生长环境。
三是促进光催化反应:氧空位氧化钨具有优异的光催化性能。在光照条件下,氧空位能够作为光生电子的捕获中心,促进光生电子和空穴的分离,从而提高光催化效率。这一特性使得地膜在光照下能够参与或促进某些有益的化学反应,如降解有机污染物、净化土壤等。
目前,研究者通过溶胶-凝胶法、水热法等方法成功制备了具有不同氧空位浓度的氧化钨样品,并通过XRD、SEM和XPS等手段进行表征。这些样品在光催化、导电、储能等领域展现出广泛的应用前景。
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