物理气相沉积法制备二硫化钨薄膜
- 详细资料
- 分类:钨业知识
- 发布于 2025年3月17日 星期一 11:01
- 作者:Xiaoting
- 点击数:336

物理气相沉积法(Physical Vapor Deposition,PVD)是一种在材料表面制备二硫化钨薄膜(WS₂薄膜)的重要技术,而WS₂薄膜因其独特的物理和化学性质,广泛应用于航空航天、机械制造、汽车工业等领域。
溶胶凝胶法制备二硫化钨
- 详细资料
- 分类:钨业知识
- 发布于 2025年3月10日 星期一 20:10
- 作者:Xiaoting
- 点击数:480

溶胶凝胶法是一种通过溶液化学反应制备纳米材料的经典方法,因其能够实现分子级别的均匀混合、控制产物的微观结构和形貌,在二硫化钨(WS₂)纳米材料的合成中具有独特优势。
解锁氧化钨薄膜:从制备到性能调控的奥秘
- 详细资料
- 分类:钨业知识
- 发布于 2025年3月10日 星期一 19:18
- 作者:Xiaoting
- 点击数:499

在材料科学的前沿领域,氧化钨薄膜以其独特而卓越的性能,正逐渐崭露头角,成为众多科研人员关注的焦点。这种看似普通的薄膜材料,却蕴含着巨大的能量,在众多领域展现出了令人瞩目的应用潜力。
氧化钨:点亮光电器件的创新之光
- 详细资料
- 分类:钨业知识
- 发布于 2025年3月10日 星期一 19:08
- 作者:Xiaoting
- 点击数:423

在科技飞速发展的今天,光电器件作为现代信息技术的关键组成部分,不断推动着通信、显示、传感等领域的创新变革。而在众多用于光电器件的材料中,氧化钨凭借其独特的物理化学性质,逐渐崭露头角,成为科研人员和工程师们眼中的“新宠”。