目前，钨铜合金的制备方法分为传统方法和现代方法两大类。钨和铜组成的合金，常用合金的含铜量为10%～50%，具有很好的导电导热性，较好的高温强度和一定的塑性。

就新型的军用伪装而言，其之所以要在生产时掺杂适量的低维度的氧化钨电致变色薄膜的主要原因是，该薄膜不仅具有较好的电磁波吸收性能，还有极为优异的光电转换效应、电致变色等特点。换而言之，相对于普通的伪装而言，含有氧化钨材料的军用设备拥有更好的耐老化性、更强的抗高温能力以及更高的变色速率等优点，更适合用来制造新一代的隐形材料。

作为一种重要的过渡金属氧化物，低维度氧化钨纳米材料因有独特的电致变色、光致变色和热致变色等特性，而引起了人们广泛的兴趣，目前已经被用来制备大面积的平板显示器。

据专业人员介绍，氧化钨靶材在氩氧比为4:1的气氛及20mtorr下能制备出具有高变色效率的氧化钨薄膜，薄膜的沉积速度为9.6nm/min。上述工作在薄膜磁控溅射过程中虽然用到少量的氧气，但是要使微量气体均匀分布在腔室中，需要镀膜设备额外增加一些新的部件来确保气体流入的均匀性，不过这样会增加投资成本。因此，为了克服这个问题，本文将介绍氧化钨薄膜的新制备方法。