军事防御钨合金块

钨合金块常用于军事防御的配重,例如:枪、预制碎片和军事武器的配重。

军事武器钨合金块配重,是采用近似于成形技术的金属注射成型技术加工而成的,与传统的加工方法相比,这种方法更能制造出优质的精密组件。比起铸造、粉末冶金和金属注射成型零件,直接生产小型的约0.1克到200克的复杂的形状的钨合金块的公差会达到0.1%-0.5%,而相对于密度高达95%到99%的钨合金块,它的机械性能又更高。没有或只有微量机的材料利用率会高达97%,而一般尺寸的制造公差小、重复性好并且是可调节的物质组成,精细零件表面光洁度、可改进强度和热处理电阻的性能都很高。

 

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氧化钨规格

氧化钨规格:


Grade

WO3 (%,min)

Impurities (%,max )

Al

As

Bi

Ca

Mg

Cu

K

Na

WO3-1

99.95

0.0005

0.001

0.0001

0.0015

0.0005

0.0003

0.001

0.001

WO3-2

99.5

0.0015

0.01

--

0.01

0.01

--

0.005

0.005


Impurities (%,max )

Fe

Mn

Mo

Ni

P

Pb

S

Sb

Si

Sn

Ti

0.001

0.0005

0.002

0.0007

0.0007

0.0001

0.0007

0.0003

0.001

0.0001

0.001

0.04

--

0.03

--

0.004

--

0.006

--

0.005

--

--


Grade

WO3 (%,min )

Apparent density (g/cm3)

Average size(Fsss.)u

Screen size(mesh) 100%

WO3-1

99.95

2~2.8

7~16

-40

WO3-2

99.5

0.6~1.0

0.6~1.5

 

 

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氧化钨形态结构

紫钨是氧化钨的一种不同形态,具有与其它氧化钨(蓝钨)独特的晶体结构,其性能也大不相同。蓝钨大颗粒均具有鲜明的棱角,由一个个小立方体聚集而成,表面均有不同程度的破碎,并且布满了裂纹;紫钨的形貌则与其他三者有明显的不同,每个大颗粒均为针状或棒状晶粒组成的疏松颗粒团。所有的氧化钨团粒内部都具有丰富的裂纹,其中紫钨团粒内部不仅裂纹丰富,且内部的颗粒也为针状或棒状。

紫钨颗粒的这种结构有很大的空隙,使其松装密度较低,有利于还原过程中氢气的渗入和水蒸气的逸出,使得还原不仅始于表面,还可在内部同时进行。紫钨的颗粒形貌为棒状,其余氧化钨颗粒形貌为近球状;颗粒尺寸以紫钨颗粒为最大。

 

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氧化钨含量

氧化钨含量

Grade A
  WO3 Content (%min) 99.8

Impuritie(%max)

Element Max Element Max
A1 0.0005 Na 0.0007
As 0.0009 Ni 0.0005
Bi 0.0001 P 0.0007
Ca 0.0005 Pb 0.0001
Cd 0.0001 S 0.0007
Cr 0.0005 Sb 0.0003
Co 0.0005 Si 0.001
Cu 0.0001 Sn 0.0001
Fe 0.001 Ti 0.0005
Mg 0.0005 V 0.0005
Mn 0.0005 K 0.001
Mo 0.002    

Grade B2 B3
  WO3 Content (%min) 99.5 99.5
Impurities(% max) Element Max Max
A1 0.0010 0.00
As 0.0080 0.01
Bi 0.0010 0.0010
Ca 0.0040 0.0050
Cu 0.0010 0.0010
Fe 0.0030 0.0050
Mg 0.0010 0.0010
K 0.0010 0.0010
Mn 0.0020 0.0020
Mo 0.010 0.015
Na 0.0040 0.0040
Ni 0.0020 0.0020
P 0.0040 0.0040
Pb 0.0010 0.0010
S 0.0040 0.0040
Sb 0.0010 0.0010
Si 0.0040 0.0080
Sn 0.0010 0.0010

 

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氧化钨成分

分子式:WO3
外观:淡黄色结晶粉末
筛大小:250微米(-60目)
表观密度:2.5 ~ 3.0克/ cm3
用途:主要用作原料硬质合金、钨粉、用钨基合金、真空电子decice及光电设备和化学工业

氧化钨成分

Grade WO3-0 WO3-1 WO3-2 WO3-Cr
Purity Min.(%) 99.98 99.95 99.90 -
Impurities
Max.(%)
AI 0.0005 0.001 0.001 0.001
As 0.001 0.001 0.002 0.002
Bi 0.0001 0.0001 0.0005 0.0001
Ca 0.001 0.001 0.003 -
Co 0.001 0.001 0.002 -
Cr 0.001 0.001 0.001 0.32-0.40
Cu 0.0003 0.0005 0.001 0.001
Fe 0.001 0.001 0.003 0.003
K 0.001 0.0015 0.002 0.002
Mg 0.0005 0.001 0.002 -
Mn 0.0005 0.001 0.001 0.001
Mo 0.002 0.005 0.02 -
Na 0.001 0.0015 0.003 0.002
Ni 0.0005 0.0007 0.001 0.001
P 0.0005 0.001 0.003 0.003
Pb 0.0001 0.0001 0.0005 0.0003
S 0.0005 0.001 0.001 0.0001
Sb 0.0005 0.001 0.002 0.0002
Si 0.001 0.001 0.003 0.0002
Sn 0.0001 0.0005 0.0005 0.0005
Ti 0.001 0.001 0.002 -
V 0.001 0.001 0.002 -

 

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