化学气相沉积（制备钨管）的优点

因为采用CVD制备钨管具有众多优点，所以其受到冶金工业等相关人士的关注。

化学气相沉积的优点：

相比粉末冶金工艺，CVD（化学气相沉积）工艺较为简单化且稳定，可实现一次成型，因而避免了烧结、冲压、锻造等工艺过程。

沉积速度快且效率高。因为难熔金属具有原子半径大、高熔点等特性，所以不适合采用PVD（物理气相沉积）等制备技术---沉积效率低。

绕镀性好。因而可以沉积获得形状复杂的、组织致密的或是大型的零件和涂层。也容易实现管道内壁亦或是容器内壁的膜层沉积，还可以实现多层膜沉积和多组元合金膜层沉积。

沉积膜层的纯度高、致密度好且可以精确控制多组元合金膜层成分。


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