三氧化钨薄膜光致变色机理

光致变色是辐射变色中的一种形式,它是通过紫外光辐射,使三氧化钨产生着色,着色态在停止UV辐射,氧化环境下会逐渐退色的可逆过程。影响三氧化钨薄膜的光致变色行为因素很多,如薄膜的密度、厚度,辐照UV的波长和频率以及在变色过程中周围的环境气氛等等。

三氧化钨薄膜光致变色是与光激发产生的电子-空穴对紧密相连的,而电子-空穴可以将三氧化钨中的水分解成相当可观的数量。形成的质子和亚稳态的氧基,若新生的氧基被及时捕获,如氧空位,就避免这个反应的反向过程,增加介稳态的质子和电子的产生,而这些是形成色心的基础。质子和光激发的电子最终导致了有色的钨青铜型结构,氧占据了三氧化钨内的空位位置,或以分子的形式逃逸到周围的空气中。由于三氧化钨薄膜高的带隙3.25eV,限定了光激发产生电子、空穴对和随后的变色过程在近紫外区域。

在紫外区域三氧化钨导致光致变色,形成恒等的吸收带,放置暴露的氧气下,使得三氧化钨薄膜完全变化。


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