镀金产品如何有效防蚀

镀金产品会有很多原因引起腐蚀,这在电镀中是一个很重要的问题,那么如何防蚀呢,由于电镀规格乃为无法改变的事实,我们就针对制程上,环境上提出一些治本治标的方法,作为参考。

(1)如何降低孔隙度:

1.降低电流密度。在合适的电流密度与产速作一平衡调整。也就是说若希望快速生产下必须加长电镀时间(电镀槽长),尽量少用极高电流密度。

2.加电镀时间的搅拌能力,降低针孔发生率,或适时添加适量湿润剂。

3.用脉冲整流器,让镀层结晶颗粒细致,孔隙缩小。

4.间镀层电镀膜厚在规格范围内(如镍),尽量电镀在上限膜厚。

5.用有机薄膜的封孔剂(因考虑电接触性能),建议使用非水溶性的封孔剂,因日后阻绝水分能力较强。

(2)如何加强环境:

1.电镀完成后,务必用纯水清洗干净(特别是在强酸电镀流程),必要时可以搭配切水功能及使用超纯水。

2.生产后尽量不要用手直接接触镀层。因为人的手有汗液,汗液中除水分外,还有盐类,钾钙镁,尿酸,尿素,液体脂肪,乳酸,柠檬酸等的混合液,当汗液与镀层表面接触时,会在金属表面形成汗膜,对金属起电化学腐蚀,若工作中无法避免手接触,则建议每隔两小时以肥皂清洗一次,并且擦拭干燥,或者涂上生物手套,以便暂时控制汗液的分泌。

3.电镀后的制品应立即撤除电镀现场(车间)。因为电镀现场的酸气。湿气,温度都相当高,会加速镀层的腐蚀。

4.储存,检验电镀品的环境,应随时保持恒温,低湿度,干燥的空气。装设空调,除湿机,防止灰尘进入,因为灰尘中含有大量的碳,容易吸收 空气中的二氧化硫,加速腐蚀。

 

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化学镀金

尽管金的价格昂贵,但由于它优越的物理化学性能,特别是电阻率低、不易氧化而成为优良的电接触材料,在电子工业中广为应用。如做印刷电路版的插件、集成线路框架的引线、继电器防腐导电面和触点。目前,金的代用材料是钯及其合金,但钯不能完全代替金,尤其在高真空条件下的应用。金膜能透过可以光、反射红外光和无线电波,能做光线选择过滤器及无线电波反射器。

金膜能用物理沉积法和电镀法获得,近年才开始的化学镀金,因其工艺简单而发展较快。一般文献上把化学镀贵金属分成三种类型,即置换(galvanic displacemat)、自催化(autocatalytic)及基体催化(substrate catalytic)。这种分类方法显然不够完善,因一般的化学氐是专指自催化过程。置换法是很容易与后两种催化过程相区别,但后两种过程因溶液中都含有还原剂就难以区分了。最简单的区分办法是把只在金基材上镀金的过程称为自催化。较老的化学镀金液配方均非自催化过程。只有催化反应才能使沉积过程同时连续进行,可以得到几个微米厚且基本无孔的膜层。不些沉积过程同时兼有几种类型的反应,用肼做还原剂在镍基体上施镀即兼有上述三种过程。

 

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2013世界飞镖锦标赛第一轮Muramatsu vs Harrington

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