真空炉是一种在高真空环境下进行高温热处理或材料加工的设备，广泛应用于蓝宝石晶体生长、金属热处理、陶瓷烧结等领域。在真空炉中，反射屏是关键部件，用于减少热量损失、提高热效率并保护炉体结构。钼片因其优异的物理和化学性能，成为真空炉反射屏的优选材料。

钼片凭借着良好的耐高温性能、热学性能、化学稳定性和加工性能，成为了蓝宝石晶体生长炉盖板材料的优选。

真空炉是一种可在高真空或惰性气体环境中实施高温热处理及材料加工的设备，在蓝宝石晶体生长、金属热处理、半导体制造、陶瓷烧结等领域应用广泛。钼片凭借卓越的物理与化学性能，成为真空炉关键部件的优选材料，尤其在反射屏、发热带和连接件的制作中优势显著。

作为蓝宝石晶体生长炉的重要部件之一，反射屏的主要作用是热量管理：通过高红外反射率集中高温热源辐射热，优化炉内温度场分布，确保晶体生长接口温度梯度稳定；减少热散失以提升热效率。这就要求反射屏需要具备良好的耐高温性能、抗热震特性与化学稳定性，以保障蓝宝石晶体生长的均匀性与良品率。钼片凭借着高熔点、高红外反射率、低热膨胀系数和优异的化学稳定性等特点，成为了反射屏的关键材料。