含钨基材的抛光方法

详细资料: 分类：钨专利技术; 发布于 2013年4月01日星期一 14:02; 点击数：3497

本发明提供一种通过使用包含钨蚀刻剂、钨蚀刻抑制剂及水的组合物来化学－机械抛光含钨基材的方法。其中该钨抛光抑制剂为包含至少一个重复基团的聚合物、共聚物或聚合物共混物，该重复基团包含至少一个含氮杂环、或者叔或季氮原子。本发明进一步提供在含钨基材的抛光中尤其有用的化学－机械抛光组合物。步骤如下：

1）使基材与抛光垫及化学－机械抛光组合物相接触，该化学－机械抛光组合物包含：（i）钨蚀刻剂，（ii）钨蚀刻抑制剂，其中该钨蚀刻抑制剂为包含至少一个重复基团的聚合物、共聚物、或聚合物共混物，该重复基团包含至少一个含氮杂环、或者叔或季氮原子，其中该钨蚀刻抑制剂以1ppm至1000ppm的量存在，及（iii）水；

2）相对于该基材，移动具有位于该基材和抛光垫之间的该抛光组合物的该抛光垫；

3）研磨该基材的至少一部分以抛光该基材。

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