微波等离子体制备氮杂二氧化钨钒薄膜(3)
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2015年6月29日 星期一 15:25
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根据二氧化钒在68℃左右发生相变的特性,相关学者研究发现不仅掺杂可以降低二氧化钒的相变温度,VO2薄膜可以有效减少VO2粉体的相变温度。因此通过采用微波等离子制备氮杂二氧化钨钒薄膜的,相变温度可以降至35℃。而氮杂二氧化钨钒的制备方法如下:将已经制备好的V1.96W0.04O5薄膜,通过微波等离子增强法,控制反应参数,将V1.96W0.04O5薄膜还原为V0.98W0.02O2并进行氮掺杂。这个方法可以将化学计量比V1.96W0.04O5掺杂还原成不同氮含量的氮杂二氧化钨钒(V0.98W0.02O2-XNY)。反应参数设定范围如下为:总压强1kPa,反应功率100-200W,N2流量为0-20ml/min,H2流量为20ml/min,反应时间为10-30min。通过不同的参数设定和工艺条件可以制备出不同氮掺杂量的V0.98W0.02O2薄膜。且经实验发现随着氮离子的掺入,可以有效的降低氮杂二氧化钨钒薄膜的相变温度,最低可以降至35℃。
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