微波等离子体制备氮杂二氧化钨钒薄膜（1）

详细资料: 分类：钨业知识; 发布于 2015年6月29日星期一 15:22; 点击数：1517

经研究发现二氧化钒在68℃左右发生一级相变，在相变过程中，二氧化钒（VO₂）会发生电阻率、磁化率、光折射率、透射率和反射率的可逆突变。虽然VO₂是MIT特性的钒钛氧化物中最接近室温的，但是比室温高的相变温度仍然大大阻碍了VO₂的应用。所以可以运用掺杂法来改变VO₂的温度，从而提高VO₂的应用范围。掺杂法的方式有阳离子掺杂和阴离子掺杂，而掺杂VO₂的制备方法有溶胶-凝胶法、水热合成掺杂法、溅射掺杂法、金属有机化合物气相沉积法和微波等离子法等等。
经实验发现通过微波等离子氮杂VO₂薄膜可以降低VO₂粉体的相变温度，相变温度可以降低至35℃。而运用微波等离子法制取氮杂二氧化钨钒薄膜是通过选用V₂O₅和W₂O₃为前驱物，在玻璃上镀膜，然后采用微波等离子体增强法来合成的。

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