CVD钨管的组织形貌（1）

CVD钨管的组织形貌：

在CVD（化学气相沉积）过程，吸附在铜基体表面的WF₆被H₂还原成钨原子，这些钨原子会在铜基体表面聚集形核并长大，最终经切割等工艺形成钨管。

显微组织第一层的产生与钨沉积层的最初晶核的形成过程和晶核的初始长大过程有关。

钨原子会在沉积基体表面扩散并在基体表面活性位置聚集，这些位置通常是晶界附近、表面台阶位置和晶体缺陷表面露头处。

当聚集的形核达到一定的过饱和度后，沉积层晶体的最初的晶核便会形成。因为，那些存在于沉积表面的活性位置的分布并不是均匀的，所以，从微观角度来看，最初沉积表面晶核的形成也不是均匀分布的。


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