CVD（化学气相沉积法）制备钨管的硬度（2）

详细资料: 分类：钨业知识; 发布于 2015年6月15日星期一 17:52; 点击数：1475

不同沉积温度条件下（500℃-700℃），采用CVD（化学气相沉积法）制备所得的钨管，在经温度为1200℃、保温时间为1h的真空退火处理后，钨管截面显微硬度的测量结果与未经退火处理的测量结果的对比显示，经退火处理后的钨管硬度下降且钨管截面硬度值的分布趋于均匀。

得益于退火处理，钨管的残余应力（由膜层沉积生长过程中柱晶相互挤压和铜基体收缩造成的）降低了。由此可知，CVD制备钨管的硬度可达较高（500-800HW）。

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