化学气相沉积法制备钨管

以高纯WF₆和高纯H₂为原料，采用CVD（化学气相沉积法）制备钨管，其沉积温度控制在500-700℃。

钨管的制备过程为：

WF₆和H₂发生化学反应，WF₆还原为钨原子，在沉积仿形基体上获得钨沉积层。

该过程结束后，通过在真空炉中将基体熔化或是通过化学腐蚀获得沉积钨管，其形状取决于沉积基体的形状，尺寸精度可控。

然后，用密度测量仪测量产品的密度；

用显微硬度计测试其显微硬度；

用万能材料试验机测量产品的抗拉强度；

用金相显微镜进行金相观察，并用数码相机采集金相图片；

用荧光X射线谱和能谱仪对沉积成分和氟化物残留物进行分析；

用衍射仪分别测量产品表面的切向、轴向和产品端面的径向的残余应力。


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