三氧化钨薄膜透光性（3）

详细资料: 分类：钨业知识; 发布于 2015年6月10日星期三 16:44; 点击数：1351

采用XRD-600衍射仪进行对不同方法制备的薄膜的结构形态分析。不同温度下退火处理得到的三氧化钨薄膜样品的形态不同。

通过比较溶胶-凝胶法和磁控溅射法制得的三氧化钨薄膜在退火前透光率相似,在300℃以上退火处理后薄膜样品的透光率下降,且退火温度越高,透光率越低。在350℃以下退火处理得到的三氧化钨薄膜样品为非晶态,350~400℃范围内退火时,薄膜样品逐渐完成非晶态到晶态的转变,在400℃以上退火处理后,衬底也产生了晶体衍射峰。三氧化钨薄膜的结构形态和光学性质对其气敏性能有很大的影响,例如非晶态结构薄膜相对疏松多孔,利于吸附气体,对氢气的灵敏度可能高于晶态结构的薄膜,所以该研究结果对研究氢敏性能有一定的指导作用。

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