钨纳米点的制备

作为高温超导涂层导体的重要组成原料之一，镍钨金属基带除了立方织构质量是影响该产品性能的重要因素外，基带的表面特性也十分重要，将直接影响后续氧化物材料的制备以及超导层的性能。目前对于NiW金属基带的表面特性研究主要包括：表面腐蚀、抛光、退火、表面硫化改性等，但是它们均存在一定的不足，比如没有改善基带表面活性，基带表面出现晶界热蚀钩等缺陷。因此，本文将提出在NiW金属基带表面采用低成本的化学法制备出钨纳米点，这样将提高基带的表面活性，促进氧化物层异质外延生长。

一种尺寸可控钨纳米点的制备方法的具体步骤如下：

（1）将钨酸铵溶解于乙醇和极性溶剂的混合溶剂中，加入聚乙二醇作为添加剂，配制成钨离子摩尔浓度为0.0005—0.01mol/L的前驱液，其中乙醇与极性溶剂的体积比为1:0.5—1，钨酸铵与添加剂的质量比例为1:0.1—1；

（2）将步骤（1）的前驱液采用旋涂法或浸涂法涂敷于NiW金属基底上，得到湿膜涂层；

（3）将步骤（2）的湿膜涂层置于管式炉中，在还原性气氛中，以20—300°C/min的升温速率将炉内温度从室温升至400—900°C，并保温0.5h—lh，在NiW金属基底上得到尺寸可控的钨纳米点。

该生产方法注意事项：（1）极性溶剂为氮甲基吡咯烷酮、二甲基甲酰胺或者乙腈。（2）所述旋涂法的转速为500—4000rpm，旋涂时间为30—180s。（3）所述的浸涂法的提拉速度为0.1—5m/h，浸涂时间是8—15s。（4）所述还原性气氛为氮气或氩气与氢气的混合气氛，混合气氛中氢气的体积百分含量为4—50%。（5）所述的湿膜涂层的厚度为150—500nm。

与现有技术相比，该钨纳米点的生产优势如下：

（1）在镍钨基带上制备钨纳米点，属于同质外延，制备的纳米结构具有良好的稳定性，纳米点可以提尚基带的活性，促进后续功能层的生长。

（2）其能实现钨纳米点的可控制备，前驱液配制过程简单和所需实验装置简单、制备方法成本低。

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