不同氢化温度对氧化钨的影响

为了进一步探究氢化后样品的形貌和结构的变化，能够通过透射电子显微镜对氧化钨进行表征。从图中可以看出，氢化温度为 300℃时，W-300 保持较好的形貌，为 100nm 左右的纳米颗粒；而氢化温度为 400℃时，W-400 尺寸明显变小，均在 50 nm 以下。

氢化温度为 300℃时，W-300 纳米颗粒边缘变得模糊且无序，形成一个约 2nm 的表面无序层，这一现象表明其表面结构被破坏，表面氧缺陷也在这里形成。氢化温度达到 400℃时，W-400 纳米颗粒的无序区域更加扩大，并且非无序区域的结晶度也下降明显。由W-300 和 W-400 样品的傅里叶转换图可以看到，成 90°的和原子平面可以清楚地识别，这与单斜相氧化钨晶体结构相匹配，表明结晶性较好的区域仍为 氧化钨结构。

经过进一步分析，我们发现在晶体区域有少部分晶格发生扭曲，这可能是导致 XRD 中出现部分氧化钨特征峰的原因。这部分扭曲的晶格区域形成了氧化钨结构。但由于含量太少，在傅里叶转换图和Raman图中并没有表现出来。氧空位除了存在于边缘无序区域外，同时还有极少的部分存在于氧化钨表面（晶格扭曲产生）。

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