不同溅射功率制备三氧化钨薄膜

磁控溅射法是制备三氧化钨薄膜的一种主要方法之一。在磁控溅射法制备三氧化钨薄膜的过程中，不同的溅射功率所制备的三氧化钨薄膜表面特性也不尽相同。同时溅射功率的大小也影响着三氧化钨薄膜的内部特性。

在进行磁控溅射法之前，首先需要对三氧化钨进行一段时间的预溅射。预溅射时间长短依据三氧化钨在空气中存放的时间长短而定，一般预溅射时间为 10-15分钟。这样做的目的是为了除去钨三氧化钨表面在空气中存放所积累的污染物。

磁控溅射在基底所形成三氧化钨薄膜的过程，是从三氧化钨所溅射出的原子和腔室内的活性气体之间通过反应得到的。溅射电压控制着三氧化钨的辉光放电，也为后续的化学反应提供条件。所以腔室内部的气体构成和溅射功率直接决定薄膜成分和性能的变化。

对比溅射功率分别为为 100W、80W、60W 的情况下的三氧化钨薄膜透射光谱图，可以发现功率过大过小都会降低其电致变色性能，80W 时透射率差值最为理想。功率不同就会影响溅射过程中轰击出的钨离子在基片上成膜的效果，从而影响薄膜的结构，进一步会影响到薄膜的变色性能。在溅射功率为 80W 时，比较着色态和褪色态在波长为 390nm-760nm 波长范围内的透过率差，可以发现其变色性能很好，两种状态下的透过率差平均达到 80%以上。所制备的三氧化钨薄膜褪色后的透过率与原始态相差很小，所以也体现出了很好的可逆性。

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