改变氩-氧比例制备三氧化钨薄膜

磁控溅射法作为制备三氧化钨薄膜的制备方法之一，有着许多独特的优异性能。在磁控溅射法制备三氧化钨薄膜的过程中，不同的氩-氧比例所制备的三氧化钨薄膜结构性能也有着许多的差异。同时氩-氧比例的不同也影响着三氧化钨薄膜的表面特性。

对比氩-氧比例比为 4:1、7:3、1:1 时（溅射功率为 80W、腔室压强为1.2Pa）的透射光谱图可以发现氩气含量的过大过小都会降低三氧化钨薄膜电致变色性能，氩-氧比例比为 7:3的条件下所测试得出的透射率差值最为理想。我们知道三氧化钨是一种有着类钙钛矿结构的一种复合氧化物，可以表示为ABO3。其中B被W占据着，而A所在的阳离子位置是空的，每一个钨原子都被6个氧原子所围成的正八面体包围。正是由于这种孔隙度与颜色的变化有密切的联系，从而影响薄膜的变色。

对于制备的非晶态的三氧化钨薄膜来说，其八面体的排列是三维的无序网状结构，即会形成自然地多边形隧道。着色时离子通过隧道进入 A 的空位，褪色时，离子从隧道被抽出。这也正是我们所制取得非晶态薄膜更有利于电致变色的原因。适当的氧流量制备出的薄膜在着色态和褪色态可见光区域内的透射率可达到 80%以上，是理想的制备条件。

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