近年来，三氧化钨（WO₃）纳米薄膜材料的研究引起了越来越多的关注。WO₃是一种n-型半导体材料，其禁带宽度较窄（2.4-2.8eV），能够响应可见光，并且具有与TiO₂光催化剂相似的特点，即稳定、无毒、耐光蚀、成本低且价带电势高、光生空穴氧化能力强。

光催化是未来治理环境污染的主要措施，自1972年日本人首发使用二氧化钛光催化剂以来，光催化领域已经经历了近半个世纪的发展，目前，光催化剂材料可用于多种领域，可用于污水处理，空气处理，家居环境净化，甚至还可用于发电。

近年来，选冶技术的改进和提高对氧化型的钨钼矿的富集能力大同幅提高，如甘肃、青海、新疆、内蒙古等省可以浮选出三氧化钨含量3～8％，钼含量2.5～ 12.5％的钨钼矿；两广地区浮选出含三氧化钨20～45％，钼10～25％的钨钼矿。

碳化钨是生产硬质合金的主要原材料，其主要生产方法有一步法和两步法，目前生产碳化钨粉的主要方法是两步法，即先用氢将钨的氧化物还原为钨粉，然后用钨粉配碳在高温下碳化成碳化钨粉，在生产实践中，该法并不太适用于制出超细碳化钨粉。