真空電鍍用鎢加熱子的特點
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- 分類:鎢的知識
- 發佈於:2016-07-15, 週五 11:41
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真空電鍍是一種物理沉積現象。即在真空狀態下注入氬氣,氬氣撞擊靶材,靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是採用在真空條件下,通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜,通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層,同時具有速度快附著力好的突出優點,但是價格也較高,可以進行操作的金屬類型較少,一般用來作較高檔產品的功能性鍍層,例如作為內部遮罩層使用。常見的塑膠產品電鍍工藝有兩種:水電鍍和真空離子鍍。真空離子鍍,又稱真空鍍膜。真空電鍍的做法現在是一種比較流行的做法,做出來的產品金屬感強,亮度高.而相對其他的鍍膜法來說,成本較低,對環境的污染小,現在為各行業廣泛採用。
該方法用鎢加熱子有以下特點:
1、真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1μm),能夠嚴格複製出啤件表面的形狀。
2、工作電壓比較低(200V),操作方便,但是設備的價格比較高。
3、鍋瓶容積小,電鍍件出數少,生產效率較低。
4、只限於比鎢絲熔點低的金屬(如鋁、銀、銅、金等)鍍飾。
5、對鍍件表面品質要求較高,通常電鍍前需打底油來彌補工件表面缺陷。
6、真空鍍膜可以鍍多種塑膠如:ABS、PE、PP、PVC、PA、PC、PMMA等。
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