作為一種重要的過渡金屬氧化物，低維度氧化鎢納米材料因有獨特的電致變色、光致變色和熱致變色等特性，而引起了人們廣泛的興趣，目前已經被用來製備大面積的平板顯示器。

據專業人員介紹，氧化鎢靶材在氬氧比為4:1的氣氛及20mtorr下能製備出具有高變色效率的氧化鎢薄膜，薄膜的沉積速度為9.6nm/min。上述工作在薄膜磁控濺射過程中雖然用到少量的氧氣，但是要使微量氣體均勻分佈在腔室中，需要鍍膜設備額外增加一些新的部件來確保氣體流入的均勻性，不過這樣會增加投資成本。因此，為了克服這個問題，本文將介紹氧化鎢薄膜的新製備方法。

就新型的軍用偽裝而言，其之所以要在生產時摻雜適量的低維度的氧化鎢電致變色薄膜的主要原因是，該薄膜不僅具有較好的電磁波吸收性能，還有極為優異的光電轉換效應、電致變色等特點。換而言之，相對于普通的偽裝而言，含有氧化鎢材料的軍用設備擁有更好的耐老化性、更強的抗高溫能力以及更高的變色速率等優點，更適合用來製造新一代的隱形材料。

氧化鎢作為一種價格低廉、無毒環保的過渡金屬氧化物，在光致變色、氣致變色、電致變色、儲能等領域得到了廣泛研究。相比普通的變色薄膜來說，氧化鎢薄膜具有更高的對比度、更高變色效率、更快回應速度、更好的迴圈穩定性、更低的電壓驅動等優點，因而更適合應用於建築節能玻璃、汽車防眩後視鏡、護目鏡、波音飛機舷窗等領域中。下面，我們一起來瞭解一下如何用磁控濺射法製備氧化鎢薄膜。