碳化鎢催化電極製造方法

本發明提供一種碳化鎢催化電極製造方法。其由磁控濺射鍍膜系統通過磁控濺射鍍膜法制得，步驟如下：

基體經清洗淨化處理後置於磁控濺射鍍膜系統的真空反應室中，以碳化鎢為靶材，以氬氣作為保護氣氛，各操作參數設置如下：基礎真空：4.8×10^-4~10Pa；工作壓力：0.5~20Pa；濺射功率：5~120W；氬氣流量：5~100sccm；沉積溫度：0~800℃；濺射時間：1~600min。

本發明所述的碳化鎢催化電極的有益效果主要表現在：

1）磁控濺射鍍膜系統為現有設備，只需調整好參數就能自動進行鍍膜，催化電極的製備十分方便；

2）鍍膜層與基體的結合力強、催化性能穩定、使用時間長；

3）催化性能好。

 

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