鍍鋁用鎢加熱子——大面積膜層

一般真空蒸發的速率，均勻性，膜層厚度和真空蒸發和鎢加熱子的形狀，尺寸都有很大的關係。蒸發源與工件的距離由蒸鍍時真空的程度和所需要蒸發膜的厚度等其他因素決定。當蒸發距離為6.5釐米的時候，由於蒸鍍距離比較近，膜層會不均勻，並且每次只能鍍一個螢光屏，工作效率不夠高，且不能滿足大面積屏的要求。一般在研究工作中都要求螢光屏的數量要足夠多，且黑鋁又要求其均勻度要達到標準。所以要把原來的6.5釐米的蒸發距離加大到28釐米，這樣蒸發面積的直徑就能達到26.5釐米，把所要蒸發的鋁條增加6個點，每個點之間的距離控制在0.5釐米，每條鋁絲的長度為1.8釐米，鎢絞絲加熱子的直徑為0.7毫米，總長為15釐米。這樣就能製備出大面積膜層，且均勻度達標。

黑鋁可以用薄膜厚度測量儀和光學薄膜控制儀來測量和控制膜層的厚度。這兩種儀器都可以用來測量薄膜的厚度，但是光學薄膜厚度控制儀測量的比較準確。厚度根據管子的試驗，採用50%的透過率為最佳，這樣的厚度不會影響入射電子能量，也不會影響螢光屏的解析度。

除此之外，鍍膜真空室內要保持清潔，當鍍完後要用無水乙醇擦淨。真空室內各零件準備下次在用。鍍膜時要注意真空度是否穩定，達到所要求的真空度時並選擇合適的蒸發速度，最好是快速蒸發，這樣蒸鍍後的膜層品質好，均勻度好且光澤好。