化學鍍膜最早用於在光學元件表面製備保護膜。隨後,1817年,Fraunhofe在德國用濃硫酸或硝酸侵蝕玻璃,偶然第一次獲得減反射膜,1835年以前有人用化學濕選法澱積了銀鏡膜,它們是最先在世界上製備的光學薄膜。後來,人們在化學溶液和蒸汽中鍍制各種光學薄膜。50年代,除大塊窗玻璃增透膜的一些應用外,化學溶液鍍膜法逐步被真空鍍膜取代。 真空蒸發和濺射這兩種真空物理鍍膜工藝,是迄今工業能夠製備光學薄膜的兩種最主要的工藝。1935年,有人研製出真空蒸發澱積的單層減反射膜。但它的最先應用是1945年以後鍍制在眼鏡片上。真空電鍍用鎢加熱子在蒸發鍍膜的過程中需要注意以下幾點。
1.在發熱鎢絲上纏上鋁片。如上次電鍍中熔鋁呈球狀包覆於鎢絲上則不可再用,需拆出換過鎢絲。
2.將上好籠架的啤件(通過小車)推入真空室內,保持電極緊密接觸,嵌入離合器定位牢固應能旋轉。
3.順序用機械泵,羅茨泵及擴散泵抽氣,當真空度指針達到5×10-4TORR時可開始蒸鍍操作。
4.蒸鍍過程:鎢絲升溫到650℃,鋁熔融在鎢絲上,繼續升高到近1000℃,熔化鋁被蒸發逸出鋁原子以直線運動凝結在它相碰的表面上,真空室內被鍍製品不斷在旋轉 (跟籠架)使被鍍表面鍍上均勻膜層。
5.平均鍍膜生產週期約30分鐘左右。
6.設備的詳細操作使用參見附頁數據。
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