真空鍍膜加熱器的選擇——鎢加熱子

真空鍍膜是現代新科技應用極廣的一門尖端技術，也是高等院校“近代物理試驗”中科研、應用的一個重要課題。作為實驗教學，傳統的常規辦法是利用難熔金屬也就是熔點最高的鎢（熔點為3380℃）和鉬（熔點為2620℃）作為加熱元件。被鍍的金屬一般選用熔點較低的銀（熔點為960℃）和金（熔點為1063℃）。為了確保鍍膜的品質，一般選用高純度的金和銀，但是公用購買金銀需要經過公安部門審批，而且價格很貴。所以才鍍膜材料的選擇上，需要考慮到方方面面的問題。

經過實驗證明，不管用鎢杆還是鎢舟做加熱器，或者是鉬杆還是鉬舟作加熱器，鋁從預熱到熔化，當鋁發紅剛要熔化的時候，鎢杆、鎢舟或鉬杆、鉬舟在溫度最高處會發生脆裂而使鍍膜電流中斷，鍍膜失敗。用鎢杆或鎢舟作為加熱器鍍銅的時候恰當控制加熱溫度可以鍍膜成功，但是成功率很低，用鉬杆或鉬舟作加熱器鍍銅，則成功率可達95%，所以結論是，用鍍鋁膜需要用鎢作加熱器，鍍銅宜選金屬鉬作加熱器。

鎢和鉬都是難熔金屬，且具有優異的高溫強度和耐酸蝕能力，是軍事工業和化學工業的重要材料。但是，在使用中有兩個問題必須要考慮到的是鎢和鉬的“冷脆性”和在高溫下與周圍氣體發生激烈的作用。就是因為這兩個問題極大限制了鎢加熱子鍍鋁膜的應用。

因此，真空鍍膜必須注意以下幾點：

1.加熱器材料和被鍍金屬的選擇；
2.盡可能提高鍍膜室的真空度（1×10^-4mmHG~1×10^-5mmHG）；
3.鍍膜前鍍膜室必須長時間烘烤（30~45分鐘）；
4.採用轟擊棒低真空下長時間轟擊（20~30分鐘），以上措施均為清除鍍膜室內各種雜離子及其他氣體分子；
5.控制預熱溫度，把握鍍膜時間，實現理想鍍膜。