CVD（化學氣相沉積法）製備鎢管的純度

CVD（化學氣相沉積法）是一種氣相生長方法，用來製備材料，它是在放有基材的反應室內通入一種或幾種含有構成薄膜元素的單質和化合物氣體，借由空間氣相化學反應在基體表面上沉積固態薄膜的技術。

沉積溫度控制在500-700℃，以WF₆和H₂為原料，採用CVD來製備鎢管。

WF₆和H₂相互作用並還原為鎢原子，然後，鎢沉積層會沉積在沉積基體上。之後，沉積鎢管可通過化學腐蝕或是在真空爐中將基體熔化獲得，其尺寸精度可控。

對鎢管進行X射線螢光掃描分析結果表明，採用CVD制得的鎢管純度高。具體體現為：沉積膜層中，鎢的含量不小於99.7％。

 

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