濺射氣體對三氧化鎢納米薄膜的影響

通過反應磁空濺射法製備的三氧化鎢納米薄膜,它的平均粒度徑均小于100nm。三氧化鎢（WO₃）納米薄膜晶粒的大小與磁射條件和處理溫度相關。經過研究者的實驗發現在濺射WO₃納米薄膜時，濺射氣體量和比例對提高氣敏特性起著重要的影響。

通過XPS分析可知，雖然濺射混合氣體（O₂/Ar）的比例不同，但是W4f_7/2和Ols的結合能不變，分別是35.5eV和530.6eV。幷且WO3納米薄膜沒有發生化學計量比的變化，但是隨著O₂分壓的不同，WO3納米薄膜微結構將會有很大的變化，這種現象可以用團聚的减少來解釋，即當O₂分壓增加時，晶體粒徑變小。但如果O₂分壓大于50%時，則會導致孔隙率的降低，從而降低了原件的靈敏度，這說明最佳濺射混合比例爲1：1。所以當濺射混合氣體（O₂/Ar）比例爲1:1時采用直流反應磁控濺射法製備WO₃納米薄膜的氣敏度最好。

 

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