濺射鎢靶材簡介

鎢濺射靶材由鎢粉製成，常用的濺射鎢靶材的類型有平面靶型、電弧靶型和旋轉靶型。

因為靶材的品質會直接影響薄膜的性能，所以濺射鎢靶材需滿足以下要求：

純度高；靶材的純度越高，濺射噴膜的效果-膜的電學及光學性能會越好，耐腐性也越強。一般，半導體器件和顯示器等對靶材的純度要求較為嚴格，例如，用於磁性薄膜的鎢靶材的純度要求一般在99.9％以上。

緻密度高；

晶粒尺寸小；

雜質含量低；靶材作為濺射中的陰極，主要污染源來自氣孔中的的氧氣、水和固體中的雜質等。雜質含量越低，純度就越高。

成分與組織結構均勻。

 

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