濺射鎢靶材原理

鎢濺射靶材由鎢粉製成，常用的濺射鎢靶材的類型有平面靶型、電弧靶型和旋轉靶型。

濺射鎢靶材原理：
在高真空室中，將一個正交磁場和電場加到陽極與陰極（被濺射的靶極）之間，充入所需的惰性氣體（氬氣等），然後，永久磁鐵會在靶材料表面形成磁場並與高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下，氬氣電離（離子和電子），這些從靶極射出的電子將受到磁場的作用，在陰極附近會形成高密度的等離子體，在洛倫磁力作用下，Ar離子加速飛向靶面並以很快的速度轟擊靶面，然後，從靶上濺射出來的原子將以較大的動能飛向基片並澱積成膜。

 

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