真空爐為何選鉬片作反射屏

真空爐是一種在高真空環境下進行高溫熱處理或材料加工的設備，廣泛應用於藍寶石晶體生長、金屬熱處理、陶瓷燒結等領域。在真空爐中，反射屏是關鍵部件，用於減少熱量損失、提高熱效率並保護爐體結構。鉬片因其優異的物理和化學性能，成為真空爐反射屏的優選材料。

鉬的熔點高達2623°C，遠超許多常見金屬材料如鐵、鎳等，使其能夠在極端高溫下保持結構穩定性和機械強度。在高溫真空環境中，鉬片不會發生顯著的軟化、變形或熔化，能夠長期承受熱輻射和熱衝擊，確保反射屏的可靠性和使用壽命。相比之下，普通金屬材料在如此高溫下可能快速失效，導致反射屏變形或破損，影響爐內熱場的均勻性。

鉬片在真空或還原性氣氛中表現出較好的化學穩定性，不會與爐內殘餘氣體或保護氣體發生化學反應，也不會與被加工材料產生化學作用。這種化學惰性有效避免了反射屏表面生成氧化物或其他化合物，防止了雜質進入加工材料，從而保證了產品的品質。

反射屏的主要功能是通過反射熱輻射減少熱量損失，提高真空爐的熱效率。鉬片具有較高的熱反射率，能夠有效將爐內的紅外輻射反射回加熱區，減少熱量向爐壁的傳遞，從而降低能耗並提高溫度均勻性。鉬片表面可以通過拋光處理進一步提高反射率，增強其熱遮罩效果。此外，鉬的低熱導率也有助於減少熱量通過傳導損失，使其在高溫環境下作為反射屏的性能表現出色。

鉬片具備出色的延展性與加工特性，可借助軋製、切割、衝壓、焊接等工藝，被加工成各類複雜形狀，以契合不同真空爐的設計要求。無論是圓形、筒形反射屏，還是多層結構的反射屏，鉬片均能通過精密加工實現適配。

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