單層二硫化鉬量子點電子流與磁通量的關係

來自摩洛哥的研究人員對單層二硫化鉬(MoS2)量子點受磁通量影響的狄拉克電子散射問題進行了研究。通過求解狄拉克方程,制定了特徵態、散射係數、散射效率和反射電子流徑向分量的分析運算式。

2004年,第一個單原子厚度的材料 - 石墨烯的發現,加速了對原子級的二維(2D)材料的研究。控制單原子層並以精確的順序逐層重新組合以建立異質結構為新應用開闢了無限的可能性。

最近,單層二硫化鉬引起了人們的關注,因為它將電子遷移率與石墨烯器件相媲美,並具有有限的能量間隙。單層MoS2擁有直接間隙,是一種間接間隙半導體,其次,其電性能似乎對外部壓力、應變和溫度非常敏感,這些因素影響著間隙,並且在某些條件下,還能產生絕緣體/金屬過渡。

二硫化鉬量子點圖片

由於二維(2D)過渡金屬二氯化物納米材料具有特殊的性質,如光學特性、電化學和催化活性,近年來引起了許多研究人員的興趣。因此,在傳感、光催化、能源、醫療保健和其他相關領域的各種潛在應用已被證實。

經過處理後,這些二維納米材料的尺寸將進一步縮小,創造出具有獨特光學特性的量子點,可能被用於一系列行業。由於二硫化鉬量子點的製造簡單和出色的生物相容性,二硫化鉬量子點(MoS2 QDs)在這些過渡金屬二氯化物量子點中得到了很多關注。

此外,與其他形態的MoS2納米結構(如納米片和納米管)相比,MoS2 QDs表現出微小的尺寸和可控的螢光發射,賦予了它們在生物領域的應用前景,如生物感應、生物成像等。

這項研究進行了迪拉克電子在MoS2量子點中受到勢壘V和磁通量φ的散射。計算了迪拉克方程的適當邊界條件,並證明了散射係數αm和βm可以用來描述系統特徵,並且確定了電流密度的徑向分量、散射係數的平方模數和散射效率。

單層MoS2量子點的製備圖片

MoS2量子點中自旋上升和自旋下降狀態的狄拉克電子散射作為量子點半徑R的函數,發現當R接近零時,效率散射Q變為零,所以當R增加時,Q表現出阻尼振盪特性,出現的峰取決於φ和τ。接著建立入射能量E對散射現象的影響,結果表明,當E增加時,Q迅速下降,兩個自旋態都出現了一個共振峰。

此外,該研究還發現了量子粒表現出振盪行為,作為間隙能量的函數,具有對稱行為,在分析擴散係數的平方模數作為入射能量的函數,以找到共振。這項研究表明,二硫化鉬量子點的散射係數、散射效率和反射電子流的徑向分量依賴於磁通量。

 

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