氫氣還原氧化鎢的缺陷

氫氣環境中高溫退火是得到含有氧空位的非化學計量的氧化鎢結構的一種有效的方法。但是需要注意的是氫氣是一種易燃易爆氣體，在高溫下更是容易發生爆炸。而高溫條件又是必不可少的，它起到克服活化能障礙的作用。

由於使用氫氣在高溫下還原氧化鎢具有很大的危險性，因此選用一種危險係數小的還原劑代替氫氣來還原氧化鎢顯得很有必要。一些無機氫化物如氰化鈉、氫化鈣等。通過還原反應同樣可以在半導體材料中引入氧空位。由於具有高還原活性，這些無機氫化物可以提供氫離子通過固體反應還原半導體材料中的氧，從而在其結構中生成氧空位。這些無機氫化物具有高還原活性，且在高溫下不易發生爆炸，因此可用作還原劑來還原氧化鎢來得到亞化學計量的氧化鎢結構。

選用具有較強還原選擇性的硼氫化鈉代替氫氣作還原劑來對氧化鎢進行氫化，是一種行之有效的方法。將氧化鎢和硼氫化鈉研磨混合，通過固體反應來還原氧化鎢，從而將氧空位引入其中。通過SEM、XRD 和 XPS 等表徵方法，能夠探究不同退火溫度對氧空位形成的影響及氧化鎢形貌、結構的變化。之後觀察氫化後樣品的等離子共振效應，最後可通過Tafel 斜率和EIS分析不同樣品的電催化析氫活性，探究氫化對電催化活性的影響。