鎢青銅(TB)型晶體材料分子設計
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- 分類:鎢的知識
- 發佈於:2016-04-14, 週四 17:45
TB型晶體材料的分子設計近年來取得了許多新進展.主要體現在:充填A位置應用到了新的元素;充填B位置元素的多樣化以及摻雜改性。
表1列出了Foster等通過分子設計開發的部分新晶體。從中可以發現,TB型晶體材料的開發,A位置傳統上主要引用Ba、Sr、Pb,K等元素來充填,近年出現了引用La、Ce等稀土元素來充填的新動向。稀土元素的TB型晶體材料的國內報導不多.但國外已經有較為系統的研究;B位置傳統只設一種陽離子佔據.近年來,通過在該位置引入低價陽離子,使得A位置可引入更多的陽離子來平衡電價,擴大了A位置分子設計的餘地,同時也有利於得到結構穩定的TB晶體。
對TB型晶體材料進行微量摻雜,可以有針對地改善其性能,提高晶體的生長品質。表2給出了SBN、KNSBN在摻雜後性能的變化。
值得一提的是,TB型晶體材料的應用研究進展較快。SBN、PBN等經典的TB型晶體材料,其陶瓷材料和薄膜材料的製備、性能研究活躍;同國外相比,國內B位置採用W元素的TB型晶體材料研究較少。磷酸鹽的TB結構薄膜由於具有良好的超導應用前景,已經引起極大的重視,但國內此方面的研究顯得薄弱。

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