探究三氧化鎢紅外反射性能

採用濺射靶材為高純金屬鎢（99.9%），直徑為100mm，選用ITO玻璃和單晶矽片作為基底，靶與基底的距離為60mm，濺射氣體為AR和O₂，分別通過品質流量計控制引入沉積室，本底真空為-3000Pa，通過濺射工藝參數（氣壓、組成、功率、基底溫度時間等）的合理選擇沉積相應結構的非晶和多晶氧化鎢薄膜。採用電化學迴圈伏安法測試薄膜的電化學穩定性能，選用X射線衍射。散射光譜等手段分析沉積薄膜的組成和結構，薄膜的紅外反射性能由分光光度計測定。

採用直流反應濺射工藝製備具有良好的電化學迴圈穩定性的多晶三氧化鎢薄膜。實驗發現，隨著鋰離子和電子的共同注入，多晶薄膜中的W6⁺逐漸被還原為W5⁺，紅外反射測試表明電子注入薄膜後，成為自由載流子，使得薄膜表現出一定的金屬性，具有一定的紅外反射調製性能。採用工藝製備的三氧化鎢結構的發射率在0.261~0.589的範圍內可逆調節。

由圖可得，基底不加熱時，沉積薄膜僅發現基底單晶矽的衍射峰，薄膜整體表現為無定型結構；基底溫度達到350℃時，薄膜呈現出一定的結晶傾向，在衍射角附近出現屬於結晶三氧化鎢的特徵衍射峰；其他衍射峰的相對較弱。矽基底的衍射峰仍較明顯，可認為該條件下沉積的氧化鎢薄膜取向生長極為明顯，結構不完整，主要由取向生長的多晶和非晶氧化鎢共同組成；進一步提高基底溫度晶態氧化鎢的衍射強度增大，結晶趨於完整，矽基底衍射峰強度相對大大降低，但薄膜飛電化學性能變差。

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