隨著醫療技術的發展，在臨床上已開始應用鎳-鈦形狀記憶合金支架和不銹鋼支架，但這類支架卻有一些缺點。本文在支架上鍍覆一層磁性薄膜，製備可磁化醫用金屬支架。利用外加磁場將藥物送達腫瘤細胞附近，增加了支架的化學藥物治療功能，達到局部靶向治療的作用，減少藥物的副作用。

 

製備磁性薄膜方法很多，由於支架是由鎳-鈦合金絲或不銹鋼絲製成的，形狀複雜，首選是化學鍍法。化學鍍具有成本低、操作簡單、鍍層均勻緻密、孔隙率低等優點。本文重點探討在Ni-Ti形狀記憶合金支架表而化學鍍Ni-Co-W-P磁性薄膜的配方中鎢酸鈉濃度對Ni-Co-W-P薄膜形貌及性能的影響。

 

通過化學鍍，測試與分析，可得出以下結論：

1. 鎢酸鈉對鍍膜中W的影響

隨著鎢酸鈉品質濃度的增加，鍍膜中W品質分數也隨著增加。鍍膜中金屬Ni、Co為主體元素，隨著鎢酸鈉品質濃度的增加，它們的品質分數變化不規則。P品質分數較少。圖為鎢酸鈉品質濃度為0.8g/L時鍍膜的EDS能譜分析。

2. 鎢酸鈉對鍍膜光澤度和結合力的影響

使用JS28型顯微鏡，對在不同鎢酸鈉品質濃度的鍍液中得到的鍍膜的光澤度、彎曲90°試驗後鍍膜的裂紋數和剝落塊數進行觀察評定。鍍膜光澤度和結合力的測試結果表明：改變鍍液中鎢酸鈉品質濃度，所得鍍膜的光澤度和結合力明顯改變。當鎢酸鈉品質濃度控制在0.4~1.0 g/L時，鍍膜的光澤度與結合力相對較好。