溶液中雜質濃度影響仲鎢酸銨物理性質

用濃差推動力 Δc(Δc =c-c0)表示溶液的過飽和度 ,c 為溶液過飽和濃度(溶液主體濃度);c0為溶解度飽和濃度(平衡飽和濃度)。仲鎢酸銨晶體生長過程由非基元反應 、結晶介質擴散和介面反應等 3 個步驟組成 。某一時刻的瞬間過飽和度 Δc 由結晶過程過飽和生成(聚合反應)和消除(相變反應)的差值決定。

由於溶液中 P 、As、Mo 、Si 等雜質易吸附在晶體生長的活性點上 , 妨礙晶體生長 , 這也使得仲鎢酸銨晶粒變細 ,品質變差 ;同時 , 由於結晶料液中 Cl-、S2 -等陰離子雜質經過長時間的濃縮 ,富集在仲鎢酸銨晶體的表面 , 降低了晶粒的表面活性 , 因而難於結出顆粒均勻的粗顆粒產品。由於鎢酸銨溶液中存在的雜質 P 、As、SiO2、Na 、M g 、Ca 、F e 、M o 等在仲鎢酸銨結晶過程中的行為取決於它們與仲鎢酸鹽的相互作用特性以及所形成的化合物的溶解度 及雜多 酸型 可溶性 雜質 (NH4)3 PW1 2 O 40、(NH4)3 A sW 12 O 40、(NH4)3 SiW 12 O40, 在仲鎢酸鹽結晶過程中實際上完全留在母液中 ,品質濃度最高可達 1g/L以上 ,而在鹽中的品質分數不超過 0.005 %。P 、AS 、Si雜質會降低仲鎢酸鹽的結晶率 , 其他雜質的淨化效率 Mo>Na >M g >Ca >Fe , 並取決於原始溶液中的濃度。由於溶液雜質在蒸發結晶過程中易進入產品 , 影響產品品質 , 甚至導致產品不合格 , 所以在結晶過程中 , 採取控制結晶率 、提高 NH4 Cl在鎢酸銨溶液中的濃度 、攪拌洗滌及加試劑洗滌等方法 ,可達到除雜的目的。

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