摻雜鎢絲電鍍鉻工藝影響因素-沉積時間

詳細內容: 分類：鎢的知識; 發佈於：2014-10-31, 週五 16:08

沉積時間對於摻雜鎢絲電鍍鉻工藝也具有很大的影響。以下在固定電流密度為8-10A/d㎡，電解液溫度為55℃的基礎上，分析鍍層厚度與電鍍時間的關係。

表1-1 電鍍時間對鍍層厚度的影響

時間（h）	1	2	3	4	5	6
厚度（μm）	50	78	96	110	170	180

從以上表格數據可以看出，鍍層的厚度與沉積時間成正比關係，電鍍3h即可獲得厚度不低於90μm的鍍鉻層。試驗中還發現，電鍍3h的鍍層光亮，緻密；但當電鍍時間超過3h後的鍍層表面光亮度變差，這可能是因為隨著電鍍時間的增加，鍍液靠近陰極部分的pH值升高，形成了一些鉻的氫氧化物的緣故。因此，沉積時間選擇3h為宜。

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