什麼是三氧化鎢靶材？

三氧化鎢（WO3）靶材是由三氧化鎢製造的一種陶瓷靶材。三氧化鎢是一種n型寬禁帶半導體材料，具有良好的可見光回應、優良的抗腐蝕性、較好的光生電子傳輸性能等獨特性能。

靶材，也可以稱為鍍膜靶材，是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。靶材根據材質主要分為三類：金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材。

三氧化鎢陶瓷靶材的生產工藝與傳統陶瓷的生產工藝大致相同，常見是以氧化物為主要成分的燒結體材料。需要注意的是，原料好壞會影響三氧化鎢靶材的最終性能，中鎢線上科技有限公司一直致力於專業提供高品質三氧化鎢靶材原料，如果您有任何相關的問題或購買意向，歡迎訪問h5.chinatungsten.com，或者致信sales@chinatungsten.com，隨時聯繫我們。

隨著航空、航太、郵電、鐵路、汽車和家用電器等領域的積體電路快速發展，各種電子元器件的驅動電壓及耐壓值逐漸下降，低壓微電子領域的壓敏材料傳統的ZnO陶瓷壓敏因其電壓較高和介電常數較低而限制了其在低壓微電子領域的應用。1994年，有國外學者首先報導了WO3陶瓷的非線性（壓敏行為），並指出由於WO3陶瓷具有非常低的壓敏電壓，可作為低壓微電子領域的壓敏材料使用。

除此之外，WO3靶材也是生產WO3薄膜的中間產品，有關WO3薄膜的生產介紹在其他文章之中有詳細介紹，歡迎繼續閱讀。

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