鈦摻雜WO3薄膜

專家採用金屬鎢與鎢鈦合金靶材，通過脈衝直流反應磁控濺射法製備得到鈦摻雜WO3薄膜。

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專家們通過X射線衍射、拉曼光譜、掃描電子顯微鏡、原子力顯微鏡、X射線光電子能譜、電化學工作站等分析測試手段，研究了薄膜厚度，和基片溫度、氧氣分壓等鍍膜工藝參數對薄膜晶體結構、表面形貌以及諸如調製幅度、回應時間、變色效率、迴圈壽命等電致變色性能的影響。他們還對比了三氧化鎢電致變色薄膜摻雜Ti前後結構、表面形貌與性能的不同，闡述了Ti元素摻雜對氧化鎢電致變色的影響機制。專家發現，WO3薄膜著色前後晶格應變和表面粗糙度發生變化，隨著薄膜厚度增加，變化值均先減小後增大，在厚度為250nm時變化值最小，這時三氧化鎢有較高的光學調製幅度和變色效率。因此，250nm是三氧化鎢薄膜作為電致變色功能層的最佳厚度。

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