電致變色薄膜：非晶態氧化鎢薄膜

據悉，有研究人員通過平面磁控反應濺射法在具有透明導電膜的玻璃基片上沉積獲得一種電致變色薄膜——非晶態氧化鎢薄膜，並對其進行相關研究。

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X射線衍射分析結果表明，基片在室溫狀態下得到的膜呈非晶態。以0.2N濃度的HCl為電解液，用電化學方法研究了H+注入及抽出後非晶態氧化鎢薄膜的光學性能的變化及這種變化與膜的製備參數之間的關係。獲得了沉積氧化鎢膜近於最佳的工藝條件。在純氧氣氛下，濺射功率密度1.2W/cm2，濺射氣體壓強1.3Pa時，製備的非晶態氧化鎢膜，在50次電化學迴圈後，漂白態與著色態的可見光透射率之差約為0.57，其電化學迴圈的變色壽命也長。光電子能譜分析表明，H+注入後著色態膜內出現了W5+、W4+。

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