三氧化鎢薄膜材料製備及其性能（一）

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分類：鎢的知識
發佈於：2015-02-05, 週四 19:47
作者 cq
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目前製備三氧化鎢薄膜的方法有：蒸發法、濺射法、溶膠凝膠法、電子束蒸發法、化學蒸氣沉積法、陽極氧化法、電沉積法、脈衝准分子鐳射、沉積法、離子鍍法等。由於很多方法技術複雜、工藝條件苛刻，因此其應用受到限制。目前使用較多的是蒸發法、磁控濺射法、溶膠凝膠法等，濺射法具有穩定、方便、快速、薄膜均勻等優點，蒸發法也具有快速、穩定、薄膜純度高的優點，但都存在儀器龐大、昂貴的問題，所以很多小型實驗室採用儀器簡單、成本低、易大面積成膜的溶膠凝膠法。
 
（一）濺射法
 
濺射法是指荷能粒子轟擊固體表面(靶)，使固體原子(或分子)從表面射出，並沉積到襯底或工件表面形成薄膜的方法，屬於物理氣相沉積的一種。濺射法又分為直流濺射、射頻濺射、磁控濺射、反應濺射、中頻濺射與脈衝濺射、偏壓濺射、離子束濺射等。其中磁控濺射技術因具有沉積速度較高、工作氣體壓力較低等獨特優越性，成為應用最廣泛的一種濺射沉積法。
用濺射法製備納米薄膜材料有以下優點:1)可製備多種納米金屬, 包括高熔點和低熔點金屬;2)能製備多組元的化合物納米薄膜材料;3)製備參數易控制、粒徑較均勻。
 
 
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