製備氧化鎢薄膜- 濺射鍍膜法

製備氧化鎢薄膜的方法有很多,根據薄膜的性質與製備方法及工藝條件,用不同方法製備的氧化鎢薄膜在尺寸和晶型等方面有所不同,最常見的方法除了溶膠凝膠法還有濺射鍍膜法。

製備氧化鎢薄膜- 濺射鍍膜法,是通過高能粒子轟擊固體表面,是固體原子(或分子)從表面射出,並沉積到襯底或工件表面形成薄膜的方法,其中磁控濺射技術具有沉積速度較高、工作氣體壓力較低等獨特優越性,成為應用最廣泛的一種濺射沉積法。

首先以純度為99.95%的金屬鎢作為靶材,在氬氣和氧氣按1:1的體積比組成的混合氣體中濺射得到氧化鎢薄膜。濺射時,濺射功率為100W,基底矽片和靶材的距離為7cm。濺射2h得到的氧化鎢薄膜厚度大致為0.25-0.27μm。
 

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