硬質合金塗層工藝
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- 分類:鎢的知識
- 發佈於:2013-06-18, 週二 15:49
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硬質合金塗層最常用的方法是高溫化學氣相沉積法(簡稱HTCVD法),是在常壓或負壓的沉積系統中,將純淨的H2、CH4、N2、TiCl4、AlCl3、CO2等氣體或蒸氣,按沉積物的成分,將其中的有關氣體,按一定配比均勻混合,依次塗到一定溫度(一般為1000℃~1050℃)的硬質合金刀片表面,即在刀片表面沉積TiC、TiN、Ti(C,N)或Al2O3或它們的複合塗層。反應方程式概括如下:TiCl4+CH4+H2TiC+4HCl+H2 TiCl4+½N2+2H2TiN+4HClTiCl4+CH4+½N2+H2→Ti(CN)+4HCl+H22A1Cl3+3CO2+3H2→Al2O3+3CO+6HCl用PCVD(等離子體化學氣相沉積)法在硬質合金刀片表面進行塗層也得到應用,因塗層工藝溫度較低(700°~800°),故刀片的抗彎強度降低的幅度較小,對銑刀片比較適宜。
塗層前,基體刀片表面須淨化,切削刃部位應鈍化。塗層後,因塗層材料與基休材料的線膨脹係數存在差異,故塗層刀片表面不可避免地產生殘餘張應力而使刀片抗彎強度降低。通常用TiC薄層先塗在基體表面上,因TiC的線膨脹係數與基體材料最接近;外面再塗TiN、Al2O3等。過去,單塗層材料均用TiC,雙層塗層材料多用TiC/TiN、TiC/Al2O3等,三層塗層材料多用TiC/Ti(C,N)/TiN、Tic/Al2O3/TiN等。近年,隨著基體材料的改進,塗層材料也有用TiN墊底的,即TiN/TiC/TiN等塗層材料還有HfN、MoS2等。
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