氧化鎢真空熱氧化法

鎢金屬在一般情況下較為穩定，其熔點高於3400 ℃，沸點高於5700 ℃。在有氧氣的環境中，當溫度在600 ℃以上時將會被迅速氧化為三氧化鎢。通過真空熱氧化法可以製備氧化鎢材料。

真空熱氧化法的原理是：在真空熱蒸發鍍膜機中，以氣固相反應模型為基礎，通過在高溫下加熱和微控制機內氧氣，使固體氧化並昇華為氣相氧化物，再冷卻沉積為固體。

當溫度逐漸上升時，鎢的表面會迅速被氧化為氧化鎢層。由於鎢的熔點高於3400 ℃，而氧化鎢沸點高於800 ℃，當溫度大於800 ℃時，氧化鎢層將昇華為氣相氧化鎢。當溫度低於800 ℃時，氣相氧化鎢將凝華並沉積在襯底上，根據調節氣壓、氧氣、惰性氣體、溫度控制等條件，可以合成不同晶相的氧化鎢納米薄膜。

通過對其催化性能進行測試和分析，探索了氧化鎢光催化材料的催化反應降解甲基橙機理。結果發現氧缺陷可以使氧化鎢的光回應波長範圍擴展到550 nm以上，極大的擴展了氧化鎢光催化材料的光響應範圍。氧缺陷的存在也使它在暗環境中亦可降解污水的有毒染料分子。

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