在薄膜沉積和先進製造領域，靶材的選擇對工藝效率和產品品質具有重要影響。鉬靶材和鎢靶材作為難熔金屬靶材，因其高熔點和化學穩定性被廣泛應用於太陽能電池、顯示面板和高溫塗層的製備。

鎢靶材通常以高純度鎢為基礎，有時與鈦、鉭、鎳等元素合金化，以優化特定性能。鎢作為一種難熔金屬，具有較高的熔點和優異的硬度，這使其在高溫和高能環境中保持穩定。

與其他靶材如銅、鋁、鈦和鉬靶材相比，鎢靶材在耐高溫性、高密度、化學穩定性、機械強度和薄膜品質等方面展現出顯著優勢。其在高溫、高腐蝕和高精度濺射工藝中的穩定性能，使其成為半導體、醫療設備、新能源和光學鍍膜領域的優選材料。

硬質合金球表面處理可通過鍍硬鉻、堆焊硬質合金、等離子氮化、超音速噴塗、化學轉化膜、氣相沉積、鐳射表面改性、精磨拋光等多種工藝實現，不同方法在硬度提升、耐磨性、耐腐蝕性、工藝複雜度及適用場景上各有側重。以下是一些常見的硬質合金球表面處理方法：