鎢靶材與鈦靶材的性能對比

在薄膜沉積和半導體製造領域，靶材的選擇對工藝的穩定性和產品品質起著重要的作用。鈦靶材和鎢靶材作為兩種常用的濺射材料，因其獨特的物理和化學特性，在不同應用場景中各有優勢。

鈦靶材以其優異的耐腐蝕性和生物相容性，廣泛應用於醫療、航空航太和工業塗層的薄膜製備。鈦在溫和化學環境中能夠形成穩定的氧化物層，有效抵抗腐蝕，使其適合用於植入式醫療器械的表面塗層，如人工關節或牙科植入物的耐磨層，以及航空航天部件的防護塗層。此外，鈦靶材的加工成本相對較低，易於製備，適合中低端工業應用。然而，鈦靶材的熔點和密度低於鎢靶材，在高功率濺射過程中，熱負荷可能導致靶材表面性能波動，甚至引發微粒污染，影響薄膜的均勻性和品質。

與鈦靶材相比，鎢靶材憑藉其高密度、高熔點以及優異的熱穩定性，在半導體生產和光學鍍膜領域展現出獨特優勢。其體心立方晶體結構與低熱膨脹特性相結合，使其在高功率濺射環境中能有效避免熱變形或表面劣化。這種特性使鎢靶材在長時間、高強度的濺射工藝中較為突出，適用於積體電路中柵極電極、阻擋層的沉積以及光學鏡頭抗反射塗層的製備。然而，鎢靶材的局限性在於其導電性較差，在需要高導電性的應用中不如鈦靶材。此外，鎢的加工難度較高，製備成本高於鈦靶材，這在一定程度上限制了其在成本敏感場景中的應用。

版權及法律問題聲明

本文資訊由中鎢線上®（www.ctia.com.cn，news.chinatungsten.com）根據各方公開的資料和新聞收集編寫，僅為向本公司網站、微信公眾號關注者提供參考資料。任何異議、侵權和不當問題請向本網站回饋，我們將立即予以處理。未經中鎢線上授權，不得全文或部分轉載，不得對檔所載內容進行使用、披露、分發或變更；儘管我們努力提供可靠、準確和完整的資訊，但我們無法保證此類資訊的準確性或完整性，本文作者對任何錯誤或遺漏不承擔任何責任，亦沒有義務補充、修訂或更正文中的任何資訊；本文中提供的資訊僅供參考，不應被視為投資說明書、購買或出售任何投資的招攬檔、或作為參與任何特定交易策略的推薦；本文也不得用作任何投資決策的依據，或作為道德、法律依據或證據。

• 下一個 >