為了解決W及W基合金在高溫下抗氧化性差的問題，研究人員總結了自鈍化鎢合金及表面塗層保護技術。優化合金的製備工藝（HIPed合金的熱處理等）可以有效減少或消除其內部的裂紋和孔洞、熱應力和殘餘應力，從而降低其表面的粗糙度和孔隙率。此外，還可以加入一些有益元素（Ti、Zr、Y、Nb等）來提高W基合金的高溫強度，減緩Cr陽離子的擴散，促進氧化膜的形成。

研究人員通過熱浸鍍矽法（HDS）在鎢基材上製備Si-WSi₂塗層。HDS是在高溫下，將固體滲源放入坩堝中，加熱至完全熔化，並保持一定時間的溫度。然後將加工好的樣品慢慢放入坩堝中，通過基材和熔體之間的相互滲透在基材表面形成塗層。這種方法被認為是一種經濟有效的塗層製備方法，它具有製備時間短、沉積溫度高、塗層成分均勻、表面光滑、結構緊湊等特點。

研究人員總結了不同W基材料塗層製備方法對塗層組成和氧化行為的影響。可以看出，矽化物塗層主要由一個厚的WSi₂層和一個薄的W₅Si₃層組成。由於擴散溫度相對較低，HAPC塗層需要更長的時間。在1100℃下處理4~15小時後，塗層的厚度只有30~60 µm。然而，使用CVD技術，在1200℃下沉積0.5~1小時，塗層的厚度可以達到50~80 µm。相比之下，HDS技術的塗層製備效率非常高。通過在1500℃下沉積0.25~0.42小時，可以得到厚度為36~88 µm的塗層。

WSi₂/β-SiC納米複合塗層可通過兩步化學氣相沉積（CVD）工藝獲得的。EPMA結果顯示，碳化物塗層由WC層和W₂C層組成，相應的厚度分別為2和17µm。隨後在1200℃下矽化30分鐘，得到了厚度約為50µm的WSi₂層。